今回9回目となる和光大学芸術学科３年生の選抜展のお知らせです。今年度は大場あゆ、マギー・J・リーの２名が選ばれ、それぞれ個展形式で作品を発表します。

大場あゆは 2019年和光大学芸術学科へ入学。日本画を学び、岩絵具を使った平面作品を中心に制作しています。大場は絵画には「関与できない部分」があるとし、本展覧会では「関与できない部分」＝「隙間」に着目した作品を発表します。大場は絵画世界を独自に解釈し、連続する世界（絵画）を断絶・あるいは繋ぐための「隙間」を内包する空間として再構成します。１０の隙間を持つ大場の絵画は柱のように空間に自立し、展示室全体を絵画体験の場として機能させるでしょう。